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打磨抛光机技术及工艺原理
添加时间:2017/06/26


打磨抛光机技术及工艺原理

抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用最细的材料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低。

解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层,最好不要超过600r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些,因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑,在显微镜下观察有均匀细致的磨痕,有待精抛消除。

精抛时转盘速度可适当提高,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜,正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。

下面介绍几种常用的木工抛光机的性能和特点。





手动简易抛光机

半自动抛光机

自动抛光机

自动化监测抛光机

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